化学气相沉积法用来干什么
cvd镀膜是什么膜？
cvd镀膜是什么膜？
CVD金刚石膜是一种用化学气相沉积法制备的金刚石材料。作为刀具材料，其硬度高于PCD。因为不含金属粘结剂，所以具有高导热性和高温抗氧化性。而目前生产的CVD材料韧性比较差，不能用线切割加工，所以使用受到一定限制。由于没有切削和磨削的方向性，磨削工艺性差，磨削出像天然金刚石和人造单晶金刚石那样锋利的切削刃是极其困难的。作为一种切削工具，目前还处于试验阶段，需要进一步的研发。
CVD镀膜室是指在零件表面形成一薄层化合物的过程。化学气相沉积设备包括氢气净化系统、蒸发源、卧式化学气相沉积炉和废气净化装置等。整套设备很复杂。本文以工具钢的化学气相TiC工艺为例，分析了该工艺的原理和特点。
化学气相沉积生长二硫化钼过程？
化学气相沉积法生长单层二硫化钼的方法:
一种用化学气相沉积法生长单层二硫化钼的方法，包括在生长衬底上种植种子的预处理、前驱体的预处理、生长准备、生长、获得单层二硫化钼单晶和连续的二硫化钼单层薄膜等步骤。该方法制备的单层二硫化钼具有样品质量高、面积大、重复性好的特点。
CVD技术是什么？
CVD技术是化学气相沉积的缩写。
化学气相沉积(CVD)是利用加热、等离子体激发或光辐射等各种能源，使气态或蒸气态的化学物质在反应器内的气相或气固界面发生化学反应，形成固体沉积物的技术。？简单来说，就是将两种或两种以上的气态原料引入一个反应室，然后它们相互反应形成一种新的材料，沉积在衬底表面。？从气相中析出的固体的形态主要有:在固体表面形成薄膜、晶须和颗粒，在气体中形成颗粒。
CVD技术是通过原料气或蒸汽的气相反应来沉积固体物质，所以CVD技术在无机合成和材料制备中的应用具有以下特点:(1)如果沉积反应发生在气固界面，沉积物会按照原来固体基底(也称衬底)的形状被镀上一层薄膜。？(2)涂层的化学成分可以随气相成分的变化而变化，获得梯度沉积或混合涂层。？(3)使用一定的基底材料，沉积物达到一定厚度后可以很容易地与基底分离，从而得到各种特定形状的自由沉积器皿。？(4)在CVD技术中，也可以沉积晶体或微细粉末物质，或者沉积反应可以在气相中而不是在基底表面发生，这样得到的无机合成物质可以是非常微细的粉末，甚至纳米级的颗粒也称为纳米超细粉末。？(5)化学气相沉积该工艺在低压低温下进行，不仅用于碳基材料的致密化，还可以提高材料的断裂强度和抗震性能。
？根据反应类型或压力，CVD技术可分为低压CVD (LPC CVD)、常压CVD(APCVD)、亚常压CVD(SACVD)、超高真空CVD(UHCVD)、等离子体增强CVD(PECVD)、高密度等离子体CVD(HDPCVD)、快速热CVD(RTCVD)和金属有机CVD(MOCVD)。